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化工及半導(dǎo)體制造業(yè)對(duì)水的凈化要求極高，用于清洗集成電路用水或化工用水，一般要求電阻率達(dá)到18兆歐。特別制造的RO元件和高純化級(jí)離子交換樹(shù)脂或EDI裝置，會(huì)同一些特殊的水處理方法，是 達(dá)到高品質(zhì)化工及電子用水的重要途徑。
本公司提供的HNR HINER膜元件，性能穩(wěn)定，壽命長(zhǎng)，脫鹽率高和抗微生物的侵蝕，廣泛地應(yīng)用在電廠除鹽水工藝中。
反滲透膜元件進(jìn)行鍋爐補(bǔ)給水的前處理，用來(lái)脫除硅溶解鹽和所有的有機(jī)碳類物質(zhì)，這樣可以延長(zhǎng)離子交換樹(shù)脂及EDI裝置壽命和減少再生次數(shù)，降低廢水處理設(shè)備成本及其維護(hù)費(fèi)用。
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